●本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺(PI) 薄膜、金属等材料。
●本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺(PI) 薄膜、金属等材料。
成立日期 | 2015年11月16日 | ||
法定代表人 | 向世玲 | ||
注册资本 | 50 | ||
主营产品 | 光学器件 光电设备 电子设备 | ||
经营范围 | 计算机软硬件开发;光学器件、光电设备、电子设备、自动化控制设备、环境保护专用设备、机电设备的研发、销售及技术服务,销售:五金交电、建材(不含危险化学品)、日用品;网上贸易代理。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营)。 | ||
公司简介 | 成都汉普升科技有限公司,成立于2015年11月16日,致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升,在服务领域深耕细作,具有较深的技术沉积。公司成立以来,秉承“超越极限,迈向卓越”的核心价值观,在自己所擅长领域为客户提供优良的产品和技术解决方案,公司注重产品和运营模式创新,我们坚信:唯有创新方能给用户增值,公司已与多家科研院所、高等院校及企事业单位进行横向合作,形成了科研级、工业级 ... |